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高純氮氣在集成電路、半導體和電真空器件制造中用作保護氣和運載氣，化學氣相淀積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮氣純度為9
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氮氣，化學式為N2，通常狀況下是一種無色無味的氣體，而且一般氮氣比空氣密度小。氮氣占大氣總量的78.08%（體積分數(shù)），是空氣的主要成份之一。在標準大氣壓下，氮氣冷卻至-195.8℃時，變成無色的液體，冷卻至-209.8℃時，液態(tài)氮變成雪狀
